【專題 | 「光刻機(jī)」光刻技術(shù)_ASML光刻機(jī)_國產(chǎn)光刻機(jī)_EUV光刻機(jī)】

　　光刻是半導(dǎo)體制造中最復(fù)雜關(guān)鍵的工藝步驟。作為主要工藝設(shè)備，光刻機(jī)亦是半導(dǎo)體制造中技術(shù)含量最高的設(shè)備之一，業(yè)界對其動(dòng)態(tài)十分關(guān)注。近日，全球最大的光刻機(jī)廠商ASML發(fā)布第二季度財(cái)報(bào)，在訂單量創(chuàng)歷史新高下，取得凈利潤同比增長36%，環(huán)比增長103%的良好業(yè)績。在全球高通脹的背影下，市場對經(jīng)濟(jì)衰退的擔(dān)憂及其可能對需求產(chǎn)生的影響存在明顯擔(dān)憂。然而半導(dǎo)體設(shè)備特別是光刻機(jī)行業(yè)表現(xiàn)出較強(qiáng)的抗波動(dòng)性，盡管下游消費(fèi)市場部分需求出現(xiàn)放緩，但對光刻機(jī)的需求依然十分強(qiáng)勁。ASML預(yù)計(jì)2022全年出貨量將創(chuàng)歷史新高。

　　2022全年中國大陸市場銷售增長10%

　　近日，ASML發(fā)布二季度財(cái)報(bào)，實(shí)現(xiàn)銷售收入54.3億歐元，同比增長35%，環(huán)比增長54%;其中設(shè)備收入41.4億歐元，同比增長40%，環(huán)比增長80%。在中國大陸，第二季度ASML設(shè)備收入約4億歐元，預(yù)計(jì)2022全年中國大陸同比增長10%左右。

　　從整體市場需求變化來看，當(dāng)前下游消費(fèi)市場部分需求放緩，但整個(gè)市場卻復(fù)雜得多，半導(dǎo)體設(shè)備市場需求依然強(qiáng)勁。日前，SEMI在Semicon上預(yù)測，晶圓廠設(shè)備支出預(yù)計(jì)將在2022年增長15.4%，至1010億美元，預(yù)計(jì)2023年將進(jìn)一步增長3.2%，至1043億美元。

　　在此情況下，市場對光刻機(jī)的需求至2023年也不會(huì)減弱。ASML在財(cái)報(bào)中表示，汽車市場和工業(yè)市場的增長非常強(qiáng)勁，物聯(lián)網(wǎng)進(jìn)一步推動(dòng)了對更成熟技術(shù)節(jié)點(diǎn)的需求，推動(dòng)了對傳感器、電源IC和執(zhí)行器的需求，高性能計(jì)算應(yīng)用程序的需求也有非常強(qiáng)勁的增長;隨著代工競爭的加劇，有許多正在計(jì)劃或已經(jīng)在建設(shè)的晶圓廠。半導(dǎo)體終端市場的增長和光刻強(qiáng)度的提高正在推動(dòng)對公司設(shè)備的需求。

　　明年EUV產(chǎn)能將超60臺

　　在所有光刻機(jī)中EUV無疑最受關(guān)注。財(cái)報(bào)顯示，ASML第二季度極紫外線光刻機(jī)(EUV)共售出12臺，環(huán)比增長9臺，收入19.9億歐元，環(huán)比增長232%。ASML的EUV訂單量積壓已超過100臺，同時(shí)預(yù)計(jì)明年的EUV產(chǎn)能將超過60臺。

　　EUV，尤其是下一代高數(shù)值孔徑 (NA) EUV，是推動(dòng)半導(dǎo)體微縮的關(guān)鍵技術(shù)，可在未來幾年實(shí)現(xiàn)1nm及以下的制造工藝。采用EUV可以減少工藝時(shí)間以及多重圖形化的支出成本。有消息顯示，ASML開發(fā)的新一代高數(shù)值孔徑 (0.33 NA)EUV正在用于邏輯芯片和DRAM的生產(chǎn)。

　　盡管EUV受到關(guān)注，但是深紫外線光刻機(jī)(DUV)，依然是當(dāng)前半導(dǎo)體制造的主力設(shè)備。ASML亦表示，低估了市場對DUV的需求，無論是28/45/65/90nm和0.18um這些節(jié)點(diǎn)均對DUV有著應(yīng)用。終端市場推動(dòng)了成熟制程的產(chǎn)品越來越多，比如汽車、IoT、傳感器、功率、MCU等，成熟制程市場空間不斷增長。ASML財(cái)報(bào)顯示，第二季度DUV售出79臺環(huán)比增長20臺，收入21.5億歐元，環(huán)比增長26.5%。

　　根據(jù)使用的光源與工藝創(chuàng)新，光刻機(jī)大致經(jīng)歷了五代產(chǎn)品的更疊，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)，包括g-line與i-line接觸接近式光刻機(jī)，KrF掃描投影式光刻機(jī)、ArF步進(jìn)式掃描投影光刻機(jī)以及極紫外EUV光刻機(jī)。

　　來源：中國電子報(bào)、電子信息產(chǎn)業(yè)網(wǎng)　　作者：陳炳欣

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